相約黃山｜復(fù)納科技邀您共赴2025年安徽省電子顯微學(xué)學(xué)術(shù)交流會(huì)

2025 年 3 月 27 日 - 30 日，2025 年安徽省電子顯微學(xué)學(xué)術(shù)交流會(huì)將在黃山市拉開(kāi)帷幕！這是一次匯聚行業(yè)精英、共探前沿技術(shù)的契機(jī)，復(fù)納科技也將攜前沿技術(shù)與產(chǎn)品參與其中，與大家攜手推動(dòng)電子顯微學(xué)的發(fā)展。

會(huì)議時(shí)間：2025年3月27日-30日

會(huì)議地點(diǎn)：安徽農(nóng)業(yè)大學(xué)皖南綜合試驗(yàn)站

復(fù)納科學(xué)儀器（上海）有限公司（簡(jiǎn)稱“復(fù)納科技”）深耕儀器行業(yè) 15 年，致力于引進(jìn)的分析測(cè)試科學(xué)儀器裝備，為客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品、服務(wù)和核心技術(shù)解決方案，賦能科研創(chuàng)新、工業(yè)升級(jí)。目前主要提供六大產(chǎn)品：飛納臺(tái)式掃描電鏡、Technoorg Linda 制樣設(shè)備離子研磨儀、DENSsolutions 原位透射樣品桿、NEOSCAN 高分辨臺(tái)式顯微 CT、Forge Nano 粉末原子層沉積系統(tǒng)和 VSParticle 納米氣溶膠沉積系統(tǒng)以及相關(guān)產(chǎn)品的付費(fèi)測(cè)試服務(wù)。

Part.1 飛納臺(tái)式掃描電鏡

荷蘭飛納作為桌面掃描電子顯微鏡，操作簡(jiǎn)單，成像速度快且質(zhì)量高，其優(yōu)異的低真空模式可以直接觀察不導(dǎo)電樣品，收到了眾多研究者的青睞。

Phenom AFM-SEM 原子力掃描電鏡一體機(jī)能夠提供多種測(cè)量模式，包括機(jī)械性能、相關(guān)性分析、磁性能、電機(jī)械性能和電性能等，覆蓋了從亞納米級(jí)地形測(cè)量到局部彈性、硬度、磁疇成像、壓電疇成像、導(dǎo)電性映射、局部表面電勢(shì)映射以及局部電性能等多個(gè)領(lǐng)域。

Pharos STEM 作為臺(tái)式場(chǎng)發(fā)射 SEM-STEM 電子顯微鏡，為材料領(lǐng)域的研究提供了高效、全面的表征方式。

Phenom SEM 型號(hào)推薦

Phenom AFM-SEM 原子力掃描電鏡一體機(jī)

Phenom Pharos 臺(tái)式場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡

Phenom XL 大樣品室版

Phenom ProX 電鏡能譜一體機(jī)

ParticleX Battery 全自動(dòng)鋰電清潔系統(tǒng)

Part.2 SEM/TEM 制樣設(shè)備

復(fù)納科技還擁有Technorg Linda 系列離子研磨儀，采用離子束技術(shù)，可對(duì)樣品進(jìn)行快速研磨及表面精細(xì)加工和最終拋光。是SEM/TEM 樣品表面處理的有力工具。

臺(tái)式離子研磨儀 SMART

臺(tái)式離子精修儀 Gentle Mill

臺(tái)式離子減薄儀 Unimill

Part.3 DENSsolutions 原位樣品桿

DENS 產(chǎn)品可以為原位 TEM 樣品施加外界刺激，捕捉 TEM 樣品在真實(shí)環(huán)境下的動(dòng)態(tài)現(xiàn)象。目前提供的五種原位實(shí)驗(yàn)方案：Wildfire TEM 原位加熱方案、Lightning TEM 原位熱電方案、Climate Infinity TEM 原位氣相加熱加電方案、Stream Infinity TEM 原位液相加熱加電方案和 Arctic TEM 原位冷凍熱電方案，為各學(xué)科領(lǐng)域在相關(guān)條件下研究各種材料和工藝開(kāi)辟了可能性。

Wildfire 原位加熱樣品桿

Lightning 原位熱電方案

Climate Infinity 原位氣相加熱加電方樣品桿

Stream Infinity 原位液相加熱加電樣品桿

Arctic TEM 原位冷凍熱電樣品桿

Part.4 NEOSCAN 臺(tái)式顯微 CT 

NEOSCAN 臺(tái)式顯微 CT 掃描系統(tǒng)對(duì)場(chǎng)地要求少、免維護(hù)、具備高空間分辨率。能夠真實(shí)再現(xiàn)材料內(nèi)部結(jié)構(gòu)，在材料研究、失效分析、工藝優(yōu)化中已經(jīng)成為不可替代的測(cè)試手段。

Part.5 Forge Nano 原子層沉積

ALD 技術(shù)可實(shí)現(xiàn)高精度及均勻包覆，能夠有效提升材料性能與使用壽命。Forge Nano 針對(duì)粉末類材料比表面積大的特點(diǎn)，采用流化床技術(shù)實(shí)現(xiàn)粉末材料的流化，從而保證前驅(qū)體與粉末實(shí)現(xiàn)充分的接觸，可實(shí)現(xiàn)kg級(jí)粉末批量包覆，是工業(yè)生產(chǎn)前理想的研發(fā)工具。

PROMETHEUS 流化床原子層沉積系統(tǒng)

Pandora 多功能原子層沉積系統(tǒng)

Part.6 VSParticle 納米沉積系統(tǒng)

VSP-P1 納米印刷沉積系統(tǒng)能夠?qū)崿F(xiàn)具有性能的無(wú)機(jī)納米結(jié)構(gòu)材料的打印直寫(xiě)。印刷涂層的顆粒由 VSP-G1 納米粒子發(fā)生器產(chǎn)生，經(jīng)火花燒蝕產(chǎn)生的氣溶膠顆粒其典型粒徑在 20nm 以下，且不含表面活性劑或任何其他有機(jī)添加物質(zhì)。納米粒子生產(chǎn)和印刷沉積的整個(gè)過(guò)程是自動(dòng)化的，不需要進(jìn)行后續(xù)有機(jī)成分的熱處理去除。

納米印刷沉積系統(tǒng) VSP-P1

納米粒子發(fā)生器 VSP-G1